省科技厅举行“科惠行动·光谷科创大走廊”潜江技术需求线上恳谈会

[时尚] 时间:2024-03-28 17:05:34 来源:蓝影头条 作者:百科 点击:151次

原标题:省科技厅举行“科惠行动·光谷科创大走廊”潜江技术需求线上恳谈会

荆楚网(湖北日报网)讯 (通讯员 黄祥国 吴敏)2月22日,省科术需上恳湖北省科技厅“科惠行动•光谷科创大走廊”潜江技术需求恳谈会在线上举行。技厅举行江技针对潜江微电子新材料产业重点企业共性技术需求,科惠科创湖北技术交易所科小惠团队携手专家教授线上“把脉就诊”,行动为企业与高校搭建合作桥梁,光谷助力地方产业发展。大走

“2022年科惠行动·光谷科创大走廊”潜江技术需求线上恳谈会

会上,廊潜来自新硅科技潜江有限公司负责人李楷东介绍,求线新硅科技是省科术需上恳国内出货量最大的光纤级四氯化硅生产企业之一,产品配套烽火通信、技厅举行江技亨通光电、科惠科创中天科技等众多光棒上市企业,行动为进一步发挥提纯领域技术优势,光谷公司启动了年产14700吨电子半导体材料新项目,大走作为集成电路核心原材料,廊潜对其纯度要求极高,目前仍以进口为主,实现完全国产化和自主可控,尤为紧迫。若此次微量金属离子去除及配套使用工艺技术能开发成功,则可以实现多个电子级产品的高技术指标。受限于公司人手、经验等,迫切希望能找到成熟技术或科研实力强劲的单位来进行系统研究、合作开发。

晶瑞(湖北)微电子材料有限公司介绍技术需求

来自晶瑞(湖北)微电子材料有限公司的负责人谢汪洋提出,随着集成电路的大尺寸、高精细化,对配套用功能性电子化学品如显影液的金属颗粒、阴离子含量、杂质含量、颗粒数量、工艺均匀性、批次稳定性等要求也越来越高,显影液浸润性和对光刻胶的溶解性,成为显影工序中影响集成电路良率的关键因素,亟需开发适应性表面活性剂解决该问题,希望与高校院所开展合作,掌握自主可控的知识产权,系统解决技术难点,工艺质量安全、稳定、可靠,可实现大规模工业化生产,形成本地化稳定供应能力。

参加此次活动的江汉大学教授王亮、刘延湘教授表示,此次企业提出的需求具有很强的代表性,不仅仅是单一学科的技术升级,而是需要交叉融合学科的联合攻关,在工艺原理方面,我们现有的研究成果均可满足,难点在于还需要其他学科,如机械设计、材料分析等辅助协同,才能彻底攻克产业共性关键技术难题,这个过程也是多学科实验室前沿科技成果中试熟化、应用开发的过程。后期湖北技术交易所科小惠还将与专家一道帮助企业进一步细化需求,集结多领域跨学科技术团队赴企业生产车间进行实地对接,通过多种方式开展合作。

潜江市科技局副局长刘传洪表示,近年来潜江聚力打造千亿元新材料产业集群,推动武汉城市圈“十大”示范工程之一“光芯屏端网”产业配套基地建设,通过组织企业参加高校院所科技成果转化对接活动,融入武汉城市圈同城化发展,科技创新实力和能力得到了大幅提升,引进转化高科技成果(技术、项目)达到113项,20多家企业与专家团队签订技术攻关合作协议。潜江市科技局将继续做好重点项目的政策配套和跟踪支持,希望吸纳更多的高校人才来到潜江,助力潜江重点产业提档升级。

“科惠行动•光谷科创大走廊”成果转化对接活动是落实省委、省政府加快推进光谷科创大走廊见势成效的部署要求,以成果转化对接活动推动大走廊片区协同发、打造区域创新极核的又一次具体行动。湖北技术交易所科小惠先锋队将联合地市科技管理部门,甄选地区龙头企业的共性技术需求,带领省内顶尖专家团队通过线上线下对接服务,为后期产学研合作打下坚实基础,为高水平科技自立自强贡献湖北力量。

(责任编辑:知识)

    相关内容
    精彩推荐
    热门点击
    友情链接