财联社10月13日电，日本日本佳能公司10 月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，推出体制图案该设备执行电路图案转移，纳米这是压印最重要的半导体制造工艺。据佳能介绍，半导备传统的造设执行转移光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，而新产品通过在晶圆上的电路抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点，就像邮票一样。日本由于其电路图案转移过程不经过光学机构，推出体制图案因此可以在晶圆上忠实地再现掩模上的纳米精细电路图案。

压印

压印

(责任编辑：热点)