▲ 图源:ASML
报道称,ASML 量产尖端半导体工艺所需的忘录 EUV 光刻机领域的翘楚。Rapidus 计划利用经产省提供的采购补贴,采购 EUV 光刻设备。光刻IT之家注意到,机加EUV 光刻机在全球范围内较为短缺,术合面临着台积电、日本英特尔、荷兰三星等巨头的签署强技争抢。报道指出,半导如果 Rapidus 和 ASML 展开合作,有望强化供应链。
出席签约仪式的日本经产相西村康稔以 Rapidus 为先例,表示“希望加强半导体领域的政府间合作”。此前,荷兰与日本先后追随美国的脚步,加强半导体出口管制。日本 7 月起将半导体制造设备等 23 项产品加入出口管制名单,荷兰也将于本周对 ASML 的 5 nm 级 DUV 光刻机 NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 加强出口管制。
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