显存技术重大突破,消息称 SK 海力士明年将推 2.5D fan-out 封装方案

[知识] 时间:2024-04-19 14:50:51 来源:蓝影头条 作者:百科 点击:138次
11 月 28 日消息,显存消息根据韩媒 Business Korea 报道,技术将推SK 海力士计划明年发布“2.5D fan-out”集成存储芯片封装方案,重大装方实现两个芯片之间的突破端到端连接。

这种封装方案是力士将两个 DRAM 芯片水平并排放置,然后将它们组合成一个芯片。明年这种方案的显存消息优势是由于芯片下方没有添加基板,可以让成品微电路更薄。技术将推

援引该韩媒报道,重大装方台积电自 2016 年以来一直使用类似的突破安排来集成不同的芯片,并应用于苹果的力士处理器生产中,不过存储厂商此前并未关注过这项技术。明年

HBM 型存储芯片的显存消息垂直集成固然可以显著增加接口带宽,但成本高昂,技术将推而 SK 海力士研发的重大装方“2.5D fan-out”,能有效降低生产 DRAM 芯片成本,预估会在游戏显卡的 GDDR 显存中使用。

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(责任编辑:百科)

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