尼康推出浸润式 ArF 光刻机 NSR-S636E,时隔二十多年再发新品

[时尚] 时间:2024-03-29 17:58:19 来源:蓝影头条 作者:娱乐 点击:99次

    

12 月 7 日消息,尼康尼康官网发布新闻稿,推出宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,浸润机将于明年 1 月开售。式A时隔

据介绍,光刻NSR-S636E 是多年尼康光刻系统中生产率最高的产品,是新品一款用于关键层的浸润式光刻机。

尼康表示,尼康随着数字化转型的推出加速,能够更快地处理和传输大量数据的浸润机高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能技术创新的式A时隔关键推动因素是电路小型化和 3D 半导体器件结构,而 ArF 浸润式光刻机对这两种制造工艺都至关重要。光刻与传统半导体相比,多年在 3D 半导体制造过程中更容易发生晶圆翘曲和失真,新品因此需要比以往任何时候都更先进的尼康光刻机校正和补偿能力。

NSR-S636E ArF 光刻机利用增强型 iAS(inline Alignment Station),在曝光前执行复杂的晶圆多点测量。这一系统利用高精度测量和广泛的晶圆翘曲和失真校正功能,提供了更高的重叠精度,同时保持了最大的吞吐量。

尼康表示,与当前型号相比,NSR-S636E 的生产效率提高了 10-15%。

从尼康官网参数表获悉,NSR-S636E 光刻机支持 38nm 以下精度,吞吐量可达 280 片晶圆 / 小时。

据日经新闻此前报道,时隔二十多年,尼康将于 2024 年投放光刻机新产品,通过寻求逆势开拓中国大陆市场,以实现卷土重来。

报道还称,尼康和佳能曾在 1990 年代之前主导市场,但在最尖端的极紫外(EUV)设备的开发竞争中败给了 ASML。极紫外光刻机在 2010 年后半期实用化,全世界只有 ASML 能够生产。另一方面,尼康的经营资源分散在各种光源上,缺乏强势领域。

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(责任编辑:探索)

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