据俄罗斯国际新闻通讯社报道，发出圣彼得堡理工大学的可替刻机研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，代光的芯这将使“解决俄罗斯在微电子领域的片制技术主权问题”成为可能。
据介绍，造工其中一种工具的具还成本为 500 万卢布（当前约36.3万元人民币），另一种工具的吓坏芯片成本未知。
据开发人员称，俄罗传统光刻技术需要使用专门的斯开生产掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制，发出可实现完全自动化，可替刻机随后的代光的芯另外一台设备可直接用于形成纳米结构，但也可以制作硅膜，例如用于舰载超压传感器。
在这之前，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布开始朝这个方向展开工作，所以有上述成功产生并不意外。
要知道，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语，宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机，还可击败ASML同类产品。
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