佳能表示这套生产设备的产设工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，非光而更类似于印刷，刻方没有利用图像投影的案佳原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。
这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的始销售硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的片生芯片。
佳能表示会继续改进和发展这套系统，产设未来有望用于生产 2nm 芯片。非光
注：纳米印刷（Nanoprinted lithography）通常被认为是刻方光学光刻的低成本替代品，SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。案佳铠侠此前进行过测试，不过潜在客户提出投诉，认为产品缺陷率较高，最后选择放弃。
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(责任编辑：焦点)