中国小康网2月7日讯 老马 三菱瓦斯化学将在中国新建半导体清洗液工厂。日经该产品用于在半导体的全球清洗生产过程去除微小杂质。三菱瓦斯化学在全球市场占有约5成份额，芯片新建位居第一。剂最近年来，大巨随着新一代通信网络不断实用化和物联网（IoT）的头菱普及，全球对半导体的化学需求十分旺盛。三菱瓦斯化学将强化相关产品的公司工厂供应体制，抓住不断扩大的布局需求。

三菱瓦斯化学在超纯过氧化氢市场的份额全球第一

日本经济新闻报道，中国的日经新工厂计划最早于2022年上半年投产，投资额未予公开。全球清洗新工厂生产的芯片新建是“超纯过氧化氢”。过氧化氢一般用于消毒液等，剂最提高其纯度可生产超纯过氧化氢。大巨在半导体的生产过程中，需要在不破坏微细半导体结构的情况下清除细小杂质，作为清洗液离不开超纯过氧化氢。该产品也用于研磨和蚀刻等工序。

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