发挥软硬件协同的试用竞争优势,将公司的导入测试芯片相关EDA设计工具应用到量产阶段,推出先进的广立工艺过程监控(PCM)方案,打通设计、微拓测试和分析工具的展布制造正晶中整合平台,提供高效率解决方案,性系支持高质量的软件稳定量产,目前该方案已经在多家产线验证优化。圆厂
拓展布局可制造性(Design for Manufacture,试用 DFM)系列EDA软件,自主开发了化学机械抛光工艺的建模工具CMP EXPLORER,解决集成电路设计、制造过程中CMP工艺的行业痛点,保障芯片的可制造性和良率,目前软件正在晶圆厂试用导入中。
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