黄仁勋与日本经济产业相西村康稔在经济产业省举行会谈，英伟I研表达了设立研发基地的达考地意向。黄仁勋在谈到设立基地的虑日立原因时表示“日本具备制造自研 AI 所需的技术和产业能力”。
西村表示，本设为了提高 AI 开发所需的发基计算能力，“英伟达的英伟I研协助不可或缺”。开发 AI 和生成式 AI 需要英伟达的达考地 GPU，日本政府请求英伟达进行供应。虑日立
注意到，本设黄仁勋没有提及具体的发基设立时间和地点。西村透露，作为研发基地的候选地，推荐了产业技术综合研究所，对此黄仁勋表示将积极考虑。
日本产业技术综合研究所正在研究生成式 AI 大语言模型（LLM），并在超级计算机上使用英伟达的 GPU。黄仁勋在会谈中表示，将在研发基地、初创企业、培养 AI 人才这 3 个领域对日本投资。
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(责任编辑：综合)