ASML年内仍可出口高端浸润式光刻系统,光刻机概念股震荡

[热点] 时间:2024-04-30 11:55:50 来源:蓝影头条 作者:百科 点击:56次
9月1日,年内多个光刻机概念股股价微跌,出口截至下午2点,高端概念股震雅克科技下跌0.19%,浸润张江高科下跌4.91%,式光大族激光下跌0.04%,刻系刻机鼎龙股份下跌1.88%,统光容大感光下跌3.35%,年内格林达下跌3.48%,出口苏大维格下跌4.92%。高端概念股震部分个股上涨,浸润同益股份上涨11.46%,式光怡达股份上涨0.46%,刻系刻机安集科技上涨1.77%,统光扬帆新材上涨0.13%。年内

截至下午2点,万得半导体设备概念指数上涨0.33%,万得光刻胶概念指数下跌1.63%。

消息面上,今日荷兰政府颁布的半导体设备出口管制新规正式生效,ASML发运TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统都必须获得荷兰当局的许可。新的出口管制条例下,今年年底前ASML仍然能够履行与客户签订的合同,发运这些光刻设备。

ASML同时表示,客户也已知悉出口管制条例所带来的限制,即自2024年1月1日起,ASML将基本不会获得向中国客户发运这些设备的出口许可证。

ASML对第一财经回应称,该公司已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请,荷兰政府也已经颁发了截至9月1日所需的许可证,允许ASML今年继续发运TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

8月底,多个光刻机、光刻胶概念股已连涨数日。8月29日~31日,雅克科技累计上涨13.44%,大族激光累计上涨4.24%,鼎龙股份累计上涨7.15%,扬帆新材累计上涨7.35%,容大感光累计上涨30.9%,安集科技累计上涨21.03%,苏大维格累计上涨18.63%。

光刻机是芯片工艺中最关键也是难度系数最大的环节之一,光刻机的精密程度可决定芯片制程与性能。2003年,ASML推出第一台浸没式光刻机,通过缩短紫外光波长提高光刻精度,使工艺节点从45nm持续往前到7nm。在5nm及以下工艺,EUV(极紫外线)光刻机随后接替了浸润式光刻机,ASML是EUV光刻机唯一供应商。至今,ASML基本垄断了高端光刻机市场。

据中国海关总署数据, 2023年前7个月,国内进口制造半导体器件或集成电路用的机器及装置6357台,金额830.7亿元,金额同比上升12.7%。今年6、7月,进口制造半导体器件或集成电路用的机器及装置的金额增长更猛,同比增长幅度分别达70%、92.5%。

荷兰是国内光刻机主要进口国之一。据集微网统计中国海关总署数据,2022年我国光刻机进口总额39.63亿美元,从荷兰进口额25.48亿美元,占比64.3%。2023年1-7月份,从荷兰进口额为25.86亿美元,同比增长64.8%。

除ASML,佳能、尼康也是主要的光刻机厂商。华金证券统计,2022年ASML、佳能、尼康光刻机销量分别为345、176、38台。其中,ASML可提供EUV光刻机,ASML与尼康均可提供ArFi(浸润式)、ArF光刻机。

(责任编辑:时尚)

    相关内容
    精彩推荐
    热门点击
    友情链接