（最后一图总结被卡脖子现状）,国产光刻,大家好，我是突破很帅的狐狸,今天来聊聊,EUV光刻机,上周看到市场在传，说我国突破了被「卡脖子」的国产光刻EUV光刻机技术。,突破我研究了下后发现，其实这只是国产光刻自媒体们在乱发挥，利用了我们被华为手机炒起来的突破爱国情怀……,哦，游资们也顺势拉了拉几只芯片股。国产光刻,突破,肯定咱自己国家的科技进步，这没啥问题，国产光刻但我们也要明白「希望越大失望越大」的突破道理。,国产光刻所以我今天打算来聊聊这个消息，看看实际情况是突破怎样的，顺带给大家梳理一下我们目前还被卡脖子的国产光刻环节。,突破Part 1,消息是怎么传出来的？,先说下背景——,光刻机嘛，顾名思义，国产光刻就是用光在晶圆上进行「雕刻」，「刻」出微型电路，所以在芯片领域是必不可少的。,我们也可以造出光刻机——上海微电子可以造出分辨率90nm的光刻机，据说28nm的也有望突破。,不过，如果你平时比较关注这个话题的话，应该也知道现在美国拉了荷兰卡我们脖子的，主要是7nm的光刻机。,7nm以下的光刻机用的波长更小的是EUV（极紫外线），目前这种光刻机只有荷兰公司ASML才能造得出来。,,,然后到了周五的时候，有一些股票群开始传了这张图——,,后来有人挖到了说，实现的技术是清华2021年在《自然》杂志发表的论文提到的「稳态微聚束」（SSMB）。,也有人用了更容易理解的配图——,,根据各个群里流传的说法，这次的技术突破相当于——我们生产了大量的橙子，里头什么大小都有。,这样我们可以把不同大小分别筛出来，给不同的需求用。,,作为分析师的第一反应是——,这是2021年就发布的论文，为什么现在才拿来炒作？,我也没发现有什么新进展啊……,随后，我又看到有推波助澜者在传下面这几张配图——,,要说明的是，这个配图跟SSMB不是一回事——这个是在怀柔的「高能同步辐射光源」（HEPS）。,我看了下清华的论文综述，确认了这个HEPS跟SSMB不是一个东西——,截图/《稳态微聚束加速器光源》（唐传祥等，2022）,表格里的这四类光源都可以产生EUV。,其中，LPP是目前ASML光刻机的主要技术。,而同步辐射（SR）是个很成熟的技术了，不过它的光功率达不到EUV光刻大规模量产的需求。,确切来说，用同步辐射要做到1nm的光刻也OK，就是实在是太贵了……,,而SSMB因为有高亮度、高功率的特点，所以用来替代LPP理论上没啥问题。,那么问题就来了——,SSMB能帮我们突破被卡脖子的光刻机技术吗？,Part 2,⚙️ 技术实现了突破？,理论上，SSMB确实可以应用到光刻机上，不过从实验室到产业化还有很远的距离。,,我挖了下，清华2021年的时候还在申请要建一个「稳态微聚束极紫外光源研究装置」（申报列为「十四五」国家重大科技基础设施）。,随后在去年12月份，跟雄安新区签了个《河北雄安新区管理委员会、清华大学关于共同支持“稳态微聚束(SSMB)极紫外光源设施”项目的合作意向书》。,最新进展是3月份副校长过去实地考察了下SSMB项目的选址地点。,,而即使SSMB加速器光源研究装置建设出来了，也只是造了部「打印机」而已……,确实，我们也可以用这部打印机，用「直接光刻法」，通过移动光源「画」出电路板。,但是如果要量产的话，还是需要「复印机」的，一般用的是「掩模法」。,这里稍微解释下「掩模法」的原理——,,相当于先做了个模子，然后让一部分光漏过去。,漏过去的光会再通过一个透镜，缩小成原来大概1/4的大小。,然后这些被缩小的光会射到基板上。,基板上提前上好了光刻胶，光刻胶被光射到的部分经过烘烤、显影后会溶解。,这么处理后，就形成了集成电路。,,而咱不单单在光源部分被卡脖子……,「复印机」有三个核心部分：激光光源、物镜系统、工作台。,所以光是在激光光源突破了EUV技术也没用，物镜系统和工作台咱也得跟上才行。,那么问题就来了——,目前咱都有哪些环节被卡？,Part 3,咱都有哪些环节被卡？,我根据民生证券的研报《光刻机各环节国产化情况》整理了下面的图表，一图胜千言——,,需要留意的是，我参考的那份报告是4月下旬出的。,所以过去这几个月也可能会有些变化。,不过我不是一直在这个行业里头的，所以没跟得那么紧。,业内人士知道的话可以留言指正。,还是希望独立思考的人多一些，这样才不会被某些人利用了我们的爱国激情。,一旦我们的激情被消耗光了，那带来的失落感反而会反噬我们。,「Greed is good.」,「很帅的投资客」的所有内容皆仅以传递知识与金融教育为目的，不构成任何投资建议。一切请以最新文章为准。,参考资料/,《g线、i线、KrF、ArF、ArFi、EUV六代光刻机，中国处于什么水平？》《光刻机各环节国产化情况》《中科院高能所 20210628 102556 高能同步辐射光源建设迎来重大节点_哔哩哔哩_bilibili》《同步辐射光源：从一代到四代 董宇辉 中科院高能所_20210623_哔哩哔哩_bilibili》《最“亮”的光照亮微观世界探访高能同步辐射光源》《突破垄断！国产双工件台打破ASML垄断，EUV光刻机进程加速！》《【集成电路产业科普】双工件台国产化使命肩负者——华卓精科 - 知乎》《对标ASML！光刻机核心器件，中国破冰双工件台，理想芯制程达7nm》《9月15日涨停复盘：光刻机概念持续爆发，联合精密6连板！HEPS概念、一体化压铸概念午后崛起》《HEPS不是光刻机，而是光刻厂》《中国首台高能同步辐射光源出束，预计年底达到最高能量60亿电子伏特》《我国首台高能同步辐射光源将于2025年底建设完成》《突破垄断！国产双工件台打破ASML垄断，EUV光刻机进程加速！》《高能同步辐射光源（HEPS）及光束线站_哔哩哔哩_bilibili》《高能同步辐射光源总指挥潘卫民：造大型加速器，攻克“卡脖子”难题 - 封面新闻》《稳态微聚束加速器光源.pdf》《光刻机为什么不用同步辐射光？- 知乎》《Strategy to realize the EUV-FEL high power light source - Present status on the EUV-FEL R&D activities -》《清华工物系在新型加速器光源 “稳态微聚束”研究中取得重大进展-清华大学》《高能同步辐射光源》《稳态微聚束加速器光源》《河北清华发展研究院工作简报》

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