9 月 4 日消息，美光据台湾 《中央通讯社》 报道，程内存预台湾美光董事长卢东晖表示，计年美光有多达 65% 的上半 DRAM 产品在台湾生产，其中台日团队一起研发新一代的年台 1-gamma 制程将于 2025 年上半年先在台中厂量产，这是量产美光第 1 代采用极紫外光（EUV）的制程技术。

据悉，美光美光现在只有在台中有 EUV 的程内存预制造工厂，1-gamma 制程势必会先在台中厂量产，计年日本厂未来也会导入 EUV 设备。上半

卢东晖强调，年台台湾和日本是量产美光非常重要的制造中心，美光有多达 65% 的美光动态随机存取记忆体（DRAM）产品在台湾生产；继日本厂去年 10 月开始量产 1-beta 制程技术后，台湾现在也开始量产 1-beta 制程。程内存预

从报道中获悉，计年相较上一代的 1-alpha 制程，美光最新的 1-beta 制程功耗降低约 15%，位元密度提升超过 35%，每颗晶粒容量可达 16Gb。

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(责任编辑：知识)