消息称如果该项目继续推进，国推光刻中芯国际、特供版华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的消息向中设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。
图源 ASML
消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是将机 10 年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。国推光刻
1980Di 是特供版 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、消息向中分辨率可以达到 <38 nm，称A出理论上可以支持 7nm 工艺。将机
大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机，国推光刻主要生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。
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