HFS技术全新突破,CR2000:1再上MNT显示“新高地”

[百科] 时间:2024-04-28 16:49:15 来源:蓝影头条 作者:知识 点击:81次
全屏实力,新高地硬核领跑。TCL华星广州t9产线,术全上是国内首条专门生产高端IT及专业显示产品的高世代产线。其产品均已搭载由TCL华星自主研发的新突显示HFS 技术,并于4月实现量产。HFS技术采用负性液晶加光配技术,新高地搭配H-HFS全新像素结构设计,相对于传统技术在穿透率、对比度、术全上功耗等方面具有明显优势。新突显示

近来,新高地TCL华星HFS MNT技术再次创新升级,在保证HFS技术低能耗的基础上,将对比度提升至CR2000:1,再上MNT显示“新高地”。

技术方案再创新,术全上使对比度越级提升成为可能

相比于TCL华星以高对比、高曲率、新突显示高刷新、新高地快响应(简称“三高一快”)优势驰骋电竞圈的术全上HVA技术,同为华星自主研发的HFS则以优秀的视角与低能耗而闻名。在对比度方面,新突显示升级前的HFS技术足以满足大多数人的观看需求,但在与HVA技术相比较时,又大为不足。而且,新高地随着电子竞技产业的飞速发展,游戏的多元化场景、道具、术全上玩法、新突显示资源等呈现不断扩容与快速迭代的趋势,对作为视觉交互核心的显示产品对比度提出了更高要求。

为解决HFS技术在MNT领域的对比度提升难题,TCL华星t9研发团队经过长期探索实践,提出穿透率提升技术方案,可有效提升亮态光效10%—15% ,为HFS MNT 技术对比度达到2000:1的跨越升级创造了条件。

液晶材料新设计,平衡高对比与低能耗关系

在实际应用中,高对比液晶材料需要通过提升K值和降低折射率来降低液晶材料的散射系数。而低散射高对比液晶材料会增大LCD的驱动电压,降低透过率,从而增大OC功耗和背光功耗,造成模组功耗增加。

在实际开发中,增加液晶材料的弹性系数K、降低双折射率Δn,都能有效减少液晶对光的散射,进而提升对比度。但这样的低散射高对比液晶材料需要更大的驱动电压,还会使光透过率降低,从而导致了OC和背光功耗的增大。

所以,在HFS技术的跨越升级过程中,技术团队需解决提升对比度与保证低能耗之间的矛盾。t9研发团队经过多次尝试,开发了新像素设计方案的同时,搭配低驱动电压的负性液晶材料,重构HFS MNT技术高对比与低能耗组合的核心优势。

t9研发团队推出的穿透率提升技术方案,使高对比液晶在4mask 工艺制程下,达成对比度提升的同时也可以实现高穿透率,将液晶Vop降低1.0 V,并可降低模组功耗20% 。再者,穿透率的提高意味着可以减少DEBF膜片,使产能和工艺成本进一步得到优化。

集高对比、低能耗于一身,HFS MNT技术落地后,将为消费者带来超长续航、高效节能的全新体验。

坚守创新底色,矢志打造全球领先科技

创新是引领发展的第一动力。每一次技术的变革,都在影响社会文明的进步与发展。扎根于半导体显示行业的TCL华星,始终坚持创新底色,以迎难而上的姿态,在技术上精益求精,不断打造全球领先科技,点亮全球消费者的理想生活。此次规格提升的HFS MNT技术,将被逐渐纳入量产计划。创新科技赋能,未来显示更值得期待!

(责任编辑:焦点)

    相关内容
    精彩推荐
    热门点击
    友情链接